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半导体清洗超纯水设备制备和水质标准详细说明介绍

   日期:2018-11-09     来源:b2b    浏览:983    评论:0    
核心提示:半导体中的杂质对电阻率有哪些影响特别大。半导体中掺入微量杂质时,杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态。一.半导体芯片清洗超纯水设备水质标准半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国AS

半导体清洗超纯水设备制备和水质标准详细说明介绍

半导体中的杂质对电阻率有哪些影响特别大。半导体中掺入微量杂质时,杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态。

一.半导体芯片清洗超纯水设备水质标准

半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

二.半导体清洗超纯水设备制备工艺:

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

3、预处理→一级反渗透→加药机(pH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

三.半导体清洗超纯水设备应用领域:

1.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

2.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

3.显像管跟阴极射线管生产、配料用纯水

半导体清洗超纯水设备制备和水质标准详细说明介绍

4.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

5.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗跟用纯水配液

6.晶体管生产中主需要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

7.集成电路生产中高纯水清洗硅片

8.半导体材料、器件、印刷电路板跟集成电路

9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

10.高品质显像管、萤光粉生产

11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

12.超纯材料跟超纯化学试剂、超纯化工材料

13.实验室跟中试车间

14.汽车、家电表面抛光处理

15.光电产品、其他高科技精微产品

超纯水系统总体来说平常可分给三个部分:超纯水制造区(CUB部分)、超纯水抛光循环区(FAB部分)、超纯水输送管网(FAB各操作区)。

 
标签: 芯片 半导体
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